FUNCTIONAL 
Bauman Sci-Pub Challenge 2024: команда НОЦ ФМН в призах
Руководитель центра Илья Родионов и аспиранты Дарья Москалева и Никита Коршаков заняли 4-е место в общеуниверситетском рейтинге публикаций
Lithography
Lithography
Application, drying, and development of electronic and photoresist, as well as contact, laser and electron beam lithography
laser lithography
electron beam lithography
contact lithography
Applying / developing resists
