Бауманка запустит контрактное производство квантовых процессоров
Серия обеспечит растущую потребность РФ в суперкомпьютерах следующего поколения
50 kV electron beam lithography installation
The setup is intended for creating an image with topological dimensions of up to 10 nm in the resist layer using a focused electron beam.
Key features and capabilities: