
Bauman Sci-Pub Challenge 2024: команда НОЦ ФМН в призах
Руководитель центра Илья Родионов и аспиранты Дарья Москалева и Никита Коршаков заняли 4-е место в общеуниверситетском рейтинге публикаций
Plasma-chemical etching in chlorine-containing gases
Equipped with inductively coupled plasma source, the plant creates a high plasma density and, as a result, a high flux density of active radicals and ions.
The installation provides the following etching processes (uniformity across the plate for all processes <± 5%):